Samsung : nouvelles gravures en 14 et 10 nm avant le 7 nm EUV en 2018

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Samsung annonce deux nouveaux processus de gravure en 14 nm (le 14LPU ou Low Power Ultimate) et en 10 nm (le 10LPU). Le 14LPU est la quatrième génération de cette finesse de gravure. Il offre plus de performances sans augmenter la consommation, tandis que le 10LPU, la troisième génération de 10 nm, a le même rapport performance-watt, mais prend moins de place sur le wafer. Les partenaires de Samsung pourront commencer à concevoir des puces pour ces nouvelles finesses à partir du deuxième trimestre 2017.

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7 nm EUV (Extreme Ultra Violet)

Le communiqué de presse confirme à nouveau que son 10 nm sera sa dernière finesse de gravure à utiliser un laser à fluorure d’argon. Comme prévu, la firme passera aux ultra-violets extrêmes à partir du 7 nm en 2018. Samsung devrait d’ailleurs bientôt montrer les modules de mémoires servant de prototypes pour ce nouveau processus de fabrication.

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