Intel vient d’annoncer avoir réussi à graver en 15 nm en utilisant un procédé de lithographie par immersion. Cette avancée pourrait repousser, encore une fois, l’introduction de la lithographie par ultraviolet extrême.
Des résultats prometteurs, mais pas de promesse pour le moment
Alors que beaucoup estimaient que la lithographie par immersion ne pourrait pas dépasser les 22 nm, Intel a prouvé le contraire. Les premiers essais ont été réalisés en laboratoire. Il est donc encore impossible de parler de production de masse pour le moment.
Intel repousse les limites du possible
Néanmoins, le fait qu’Intel ait montré qu’il était possible, en modifiant certains mécanismes, d’utiliser la lithographie par immersion pour cette finesse de gravure, fait non seulement mentir tous les sceptiques, mais est surtout une bonne chose pour le consommateur. Si les recherches avancent dans le bon sens, on pourra profiter de puces en 15 nm pour un prix qui ne sera pas gonflé par l’achat de machines plus onéreuses que d'habitude, ce que demandera la lithographie par ultraviolet extrême.
sinon il serait possible d'expliquer la différence entre les 2 procédés de l'article ?? (avantages, inconvénients, limites théoriques, etc.) merci
Je pense bien que nos camarades de chez TH vont faire jouer leur relations (avec Freescale en france ou AMD en allemagne) pour pouvoir faire une jolie vulgarisation sans trop dévoiler les recettes de cuisines industrielles si chèrement défendues
Taïwanaise, apparemment
La différence est la source utilisée; dans le premier cas un laser excimer; dans le second un Plasma qui envoie un peut tout et n'importe quoi, mais dont l'émission est filtrée puis colimatée
Ils sont également un peu agressifs, ayant une énergie plus grande.
Enfin, ils ont une longueur d'onde très courte, autour de 15nm de mémoire, ce qui permettrait de graver très finement.
Intel estime que le limite avant que les effets quantiques deviennent problématique est à 9 nm. Leur démonstration s'en approche vraiment, et on peut supposer que les UVs extrême ne seront peut être jamais utilisés.
En pratique dans l'UV (150nm comme l'excimer ou 15nm pour l'EUV) on utilise des miroirs multicouches. par contre il faut prévoir effectivement des traitement résistances aux particules de haute énergie libérées par le plasma.
Les ultraviolets ça attaque grave.
Précision pour les plus cramés : non, la peau ne s'overclocke pas, arrêtez d'essayer.
Ouais, super, Intel grave en 15nm sans utiliser l'EUV.
Autrement dit Intel vient de faire ce qu'AMD a fait il y a 8 ans. (Lien)
Dans ton article, on parle de longueur et non de finesse de gravure il me semble.