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Intel repousse les limites de la litho par immersion

Par - Source: EETimes Asia | B 11 commentaires

Intel vient d’annoncer avoir réussi à graver en 15 nm en utilisant un procédé de lithographie par immersion. Cette avancée pourrait repousser, encore une fois, l’introduction de la lithographie par ultraviolet extrême.

Des résultats prometteurs, mais pas de promesse pour le moment

Alors que beaucoup estimaient que la lithographie par immersion ne pourrait pas dépasser les 22 nm, Intel a prouvé le contraire. Les premiers essais ont été réalisés en laboratoire. Il est donc encore impossible de parler de production de masse pour le moment.

Intel repousse les limites du possible

Néanmoins, le fait qu’Intel ait montré qu’il était possible, en modifiant certains mécanismes, d’utiliser la lithographie par immersion pour cette finesse de gravure, fait non seulement mentir tous les sceptiques, mais est surtout une bonne chose pour le consommateur. Si les recherches avancent dans le bon sens, on pourra profiter de puces en 15 nm pour un prix qui ne sera pas gonflé par l’achat de machines plus onéreuses que d'habitude, ce que demandera la lithographie par ultraviolet extrême.

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  • xenesys , 23 juin 2009 06:29
    ils m'étonneront toujours ces ingénieurs.... heureusement qu'ils sont là ^^

    sinon il serait possible d'expliquer la différence entre les 2 procédés de l'article ?? (avantages, inconvénients, limites théoriques, etc.) merci :) 
  • adanorm2000 , 23 juin 2009 08:06
    Il y aurait beaucoup à dire, pour avoir eu des cours sur l'industrialisation des semi-conducteurs le prof avait presque la flemme d'aborder les différentes techno de litho, tellement c'est complexe, et que le coeur de métier c'est pas "vraiment" le semi-conducteur mais ... l'optique ;) 
    Je pense bien que nos camarades de chez TH vont faire jouer leur relations (avec Freescale en france ou AMD en allemagne) pour pouvoir faire une jolie vulgarisation sans trop dévoiler les recettes de cuisines industrielles si chèrement défendues ;) 
  • Anonyme , 23 juin 2009 08:40
    Et quelle est la limite théorique de la technique de lithographie par ultraviolet extrême?
  • Afficher les 11 commentaires.
  • dark-jedi , 23 juin 2009 10:02
    La litho par immersion c est pas d'ailleurs une techno francaise?
  • jojolemariole , 23 juin 2009 10:21

    Taïwanaise, apparemment
  • babinours1st , 23 juin 2009 10:31
    xenesysils m'étonneront toujours ces ingénieurs.... heureusement qu'ils sont là ^^sinon il serait possible d'expliquer la différence entre les 2 procédés de l'article ?? (avantages, inconvénients, limites théoriques, etc.) merci


    La différence est la source utilisée; dans le premier cas un laser excimer; dans le second un Plasma qui envoie un peut tout et n'importe quoi, mais dont l'émission est filtrée puis colimatée
  • isneok , 23 juin 2009 14:41
    Les UVs extrêmes sont très difficiles à manipuler, il faut concevoir de nouveaux matériaux pour les lentilles par exemples (les UVs ne traversent pas le verre).
    Ils sont également un peu agressifs, ayant une énergie plus grande.
    Enfin, ils ont une longueur d'onde très courte, autour de 15nm de mémoire, ce qui permettrait de graver très finement.
    Intel estime que le limite avant que les effets quantiques deviennent problématique est à 9 nm. Leur démonstration s'en approche vraiment, et on peut supposer que les UVs extrême ne seront peut être jamais utilisés.
  • babinours1st , 23 juin 2009 14:58
    isneokLes UVs extrêmes sont très difficiles à manipuler, il faut concevoir de nouveaux matériaux pour les lentilles par exemples (les UVs ne traversent pas le verre).Ils sont également un peu agressifs, ayant une énergie plus grande.Enfin, ils ont une longueur d'onde très courte, autour de 15nm de mémoire, ce qui permettrait de graver très finement.Intel estime que le limite avant que les effets quantiques deviennent problématique est à 9 nm. Leur démonstration s'en approche vraiment, et on peut supposer que les UVs extrême ne seront peut être jamais utilisés.


    En pratique dans l'UV (150nm comme l'excimer ou 15nm pour l'EUV) on utilise des miroirs multicouches. par contre il faut prévoir effectivement des traitement résistances aux particules de haute énergie libérées par le plasma.
  • Intrus , 23 juin 2009 18:15
    On ne le dira jamais assez : mettez de la crème solaire !
    Les ultraviolets ça attaque grave.
    Précision pour les plus cramés : non, la peau ne s'overclocke pas, arrêtez d'essayer.
  • Wirmish , 23 juin 2009 18:25
     
    Ouais, super, Intel grave en 15nm sans utiliser l'EUV.
    Autrement dit Intel vient de faire ce qu'AMD a fait il y a 8 ans. (Lien)
     
  • Nulenlatin , 1 juillet 2009 09:53
    Wirmish Ouais, super, Intel grave en 15nm sans utiliser l'EUV.Autrement dit Intel vient de faire ce qu'AMD a fait il y a 8 ans. (Lien) 


    Dans ton article, on parle de longueur et non de finesse de gravure il me semble.