Intel repousse les limites de la litho par immersion

Des résultats prometteurs, mais pas de promesse pour le moment

Alors que beaucoup estimaient que la lithographie par immersion ne pourrait pas dépasser les 22 nm, Intel a prouvé le contraire. Les premiers essais ont été réalisés en laboratoire. Il est donc encore impossible de parler de production de masse pour le moment.

Intel repousse les limites du possible

Néanmoins, le fait qu’Intel ait montré qu’il était possible, en modifiant certains mécanismes, d’utiliser la lithographie par immersion pour cette finesse de gravure, fait non seulement mentir tous les sceptiques, mais est surtout une bonne chose pour le consommateur. Si les recherches avancent dans le bon sens, on pourra profiter de puces en 15 nm pour un prix qui ne sera pas gonflé par l’achat de machines plus onéreuses que d'habitude, ce que demandera la lithographie par ultraviolet extrême.

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11 commentaires
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  • xenesys
    ils m'étonneront toujours ces ingénieurs.... heureusement qu'ils sont là ^^

    sinon il serait possible d'expliquer la différence entre les 2 procédés de l'article ?? (avantages, inconvénients, limites théoriques, etc.) merci :)
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  • adanorm2000
    Il y aurait beaucoup à dire, pour avoir eu des cours sur l'industrialisation des semi-conducteurs le prof avait presque la flemme d'aborder les différentes techno de litho, tellement c'est complexe, et que le coeur de métier c'est pas "vraiment" le semi-conducteur mais ... l'optique ;)
    Je pense bien que nos camarades de chez TH vont faire jouer leur relations (avec Freescale en france ou AMD en allemagne) pour pouvoir faire une jolie vulgarisation sans trop dévoiler les recettes de cuisines industrielles si chèrement défendues ;)
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  • Anonyme
    Et quelle est la limite théorique de la technique de lithographie par ultraviolet extrême?
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