Intel contre attaque avec une gravure en 7 nm EUV

La gravure en 10 nm se fait encore attendre chez Intel, avec une production en masse prévue seulement pour la fin 2019, alors qu’AMD semble préparer une offensive Ryzen destructrice grâce au 7 nm de TSMC. Mais Intel tente de rassurer en parlant se sa propre gravure 7 nm en Ultra-Violet Extreme (EUV), qui pourrait […]

La gravure en 10 nm se fait encore attendre chez Intel, avec une production en masse prévue seulement pour la fin 2019, alors qu’AMD semble préparer une offensive Ryzen destructrice grâce au 7 nm de TSMC. Mais Intel tente de rassurer en parlant se sa propre gravure 7 nm en Ultra-Violet Extreme (EUV), qui pourrait offrir une densité de transistors doublée par rapport à son 10 nm.

Dates incertaines

Le 7 nm EUV d’Intel est développé par une équipe spécialement dédiée, selon le géant du processeur. Le laser utilisé pourrait même ouvrir la voie vers le 5 nm. Intel dit avoir tiré les leçons des problèmes rencontrés avec le 10 nm, et être en bonne progression pour respecter le timing initial interne de la firme. Un timing encore assez souple : une validation fin 2019, et une production massive en 2020… ou 2021…