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Des ultra-violets extrêmes pour la gravure en 7 nm de Samsung

2018 sera une année importante. Samsung utiliserait un nouveau laser pour graver en 7 nm. C’est un pas de géant que l’on attend longtemps dans cette industrie monopolisée par le laser au fluorure d’argon.

Image 1 : Des ultra-violets extrêmes pour la gravure en 7 nm de SamsungUn scanner à ultra-violet extrême par ASMLSamsung passera à un laser à ultra-violet extrême (EUV) lorsqu’il gravera en 7 nm, selon WCCFTech. Il continuera d’utiliser un laser à fluorure d’argon pour finesses de gravures moins élevées et même dans certains cas en 7 nm. Le passage à un nouveau laser est tout de même un grand pas pour l’industrie. Personne ne parle d’une date de commercialisation des puces en 7 nm de Samsung, mais le 7 nm est attendu pour 2018 dans les smartphones.

Un 10 nm 10 % plus performant

Le Coréen optimise aussi ses 14 nm et 10 nm. Il offre maintenant un 14 nm LPC (basse consommation) qui coûte moins cher à produire, mais reste aussi performant. Le 10 nm LPP est une nouvelle génération de la finesse de gravure offrant 10 % de performances en plus. Les premiers produits utilisant ces nouveaux processus de fabrication arriveront en 2017.