Des parlementaires américains travaillent à l’adoption d’une législation qui pourrait priver l’industrie chinoise des semi-conducteurs d’un équipement dont elle dépend largement.
Des membres du Congrès américain ont présenté le MATCH Act, un projet de loi bipartisan qui vise à interdire l’exportation de machines de lithographie DUV (ultraviolet profond) vers la Chine. Si ce texte venait à être adopté, il représenterait une nouvelle étape dans la politique de restrictions technologiques que Washington mène à l’égard de Pékin depuis plusieurs années.
Un équipement central pour l’industrie chinoise
Pour comprendre les enjeux de cette initiative, il faut rappeler le rôle que jouent les machines DUV dans la chaîne de production de semi-conducteurs en Chine. Les équipements EUV (ultraviolet extrême), qui permettent de graver les puces les plus avancées, sont déjà inaccessibles aux entreprises chinoises depuis que les États-Unis ont obtenu des Pays-Bas qu’ils suspendent les livraisons d’ASML vers la Chine. Le fabricant néerlandais, qui détient une position dominante sur ce marché, ne peut donc plus vendre ses machines EUV à des clients chinois.
Faute d’accès à cette technologie, les grands acteurs chinois du secteur se sont entièrement tournés vers les machines DUV, une génération antérieure mais toujours opérationnelle pour produire des puces à des nœuds moins avancés. SMIC, le principal fondeur chinois, utilise ces équipements pour fabriquer des puces en procédé N+1 et N+2, équivalents à une gravure en 7 nanomètres, obtenue par une technique dite de multi-patterning. Les fabricants de mémoire CXMT et YMTC y ont également recours pour développer leurs capacités de production. Huawei et Hua Hong figurent parmi les autres utilisateurs concernés.
Ce que prévoit le MATCH Act
Le texte présenté par le sénateur républicain Jim Risch, avec le soutien de membres des deux partis, entend moderniser le cadre américain de contrôle des exportations afin d’empêcher des pays considérés comme adversaires d’acquérir des équipements de fabrication de semi-conducteurs jugés stratégiques. Selon le communiqué du Comité des relations étrangères du Sénat, l’objectif est de verrouiller l’accès à ces technologies dites « de goulot d’étranglement » que ces pays ne sont pas en mesure de produire eux-mêmes.
Le projet de loi cible spécifiquement les machines de lithographie DUV à immersion et justifie cette restriction par l’usage qu’en ferait la Chine pour moderniser ses capacités militaires. Il prévoit également de soumettre les entreprises chinoises utilisatrices de ces équipements, dont SMIC, CXMT et YMTC, à des restrictions comparables à celles de la liste des entités américaines, ce qui leur interdirait d’accéder à certains marchés étrangers.
Le MATCH Act n’a pas encore force de loi : il est actuellement en cours de discussion au Congrès.
Des conséquences potentielles pour ASML et pour la Chine
Si le texte est adopté, ASML serait directement affecté. Dans son dernier rapport financier, la société néerlandaise indique que la Chine représente environ 20 % de son chiffre d’affaires total, une part générée en grande partie par les ventes de machines DUV. Les commandes chinoises étaient d’ailleurs attendues en hausse dans les prochains trimestres, CXMT et YMTC ayant engagé des investissements dans de nouvelles lignes de production.
Du côté chinois, la situation est d’autant plus délicate que les alternatives domestiques restent limitées. L’industrie locale a certes investi dans le développement de ses propres équipements de lithographie, mais ceux-ci ne permettent pour l’instant de couvrir que des procédés dits matures, autour de 28 nanomètres. Pour les nœuds plus avancés, la dépendance vis-à-vis d’ASML demeure réelle.
Une éventuelle interdiction des exportations de DUV viendrait donc compliquer les ambitions de montée en gamme de l’industrie chinoise des semi-conducteurs, sans pour autant signifier un arrêt immédiat de la production, les machines déjà installées continuant de fonctionner. La question de la maintenance et des pièces de rechange, que le MATCH Act entend également encadrer, constituerait cependant un autre point de pression à moyen terme.
